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等離子清洗機表面處理設備

產品簡介

等離子清洗機表面處理設備內置不高純石英倉體,容積為2升,結構為上的通用結構。采用了新型的外觀結構設計和固態電源技術,使其有效容積增大,不同真空氣體環境下容易匹配,且控制頻率穩定。真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內,即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作,特別適用科學實驗樣品清洗 和教學

產品型號:KT
更新時間:2024-03-30
廠商性質:生產廠家
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品牌鄭科探產地類別國產
應用領域電子

    KT-S2DQX型等離子清洗機表面處理設備屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設備,主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。

      等離子清洗機表面處理設備內置不高純石英倉體,容積為2升,結構為上的通用結構。采用了新型的外觀結構設計和固態電源技術,使其有效容積增大,不同真空氣體環境下容易匹配,且控制頻率穩定。真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內,即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作,特別適用科學實驗樣品清洗 和教學

 

供電電源

AC220VAC110V可選)

工作電流

整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵)

射頻電源功率

150W

射頻頻率

13.56MHz

頻率偏移量

0.2MHz

特性阻抗

50歐姆,手動匹配

耦合方式

感應耦合式(線圈耦合)

真空度

≤100Pa

腔體材質

高純石英

腔體容積

2L(內徑110MMX深度220MM)

觀察窗內徑

Φ70

氣體流量

10—600ml/min(其他量程可選)

過程控制

過程手動控制

清洗時間

手動開關

開蓋方式

鉸鏈側開式法蘭

外形尺寸

400x380x360mm

重量

23Kg

真空室溫度

小于65°C

冷卻方式

強制風冷

標配

KF16波紋管1米,kf16卡箍2,電源線一根,說明書一本。

 

    等離子清洗機具備有超清洗功能,并且在特定條件下還可根據需要改變用于某些材料表面的性能,如把等離子清洗機的等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學鍵發生重組,形成新的表面特性。RFC-2C在超清洗過程中等離子清洗機的輝光放電不但能夠加強多數材料的粘附性、相容性和浸潤性,并可消毒和殺菌。RFC-2C等離子清洗機廣泛應用于光學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。

 

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